Obducat, Europas Nano-Preisträger!!!
von Mark LaPedus, Silicon Strategies
January 19, 2004 (6:36 p.m. EST)
URL: http://www.siliconstrategies.com/story/OEG20031204S0014
AUSTIN — Während die Immersions-Lithographie in diesen Tagen Schlagzeilen macht, taucht mit der Nanoimprint-Lithographie eine weitere vielversprechende Technologie auf.
Molecular Imprints Inc. (MII), einer der führenden Entwickler der Nanoimprint-Technologie, hat diese Technik jetzt auf die 2003-er Ausgabe der International Roadmap for Semiconductors - kurz ITRS - gesetzt. Die ITRS-Roadmap sieht die Nanoimprint-Lithographie derzeit für den 32-nm-Bereich vor, der für das Jahr 2009 anvisiert ist.
Die Ankündigung "untermauert die Glaubwürdigkeit der Step- und Flash-Imprint-Lithographie als tragfähige Technologie für die Chipherstellung", erklärt S.V. Sreenivasan, CTO von MII, in einer Pressemitteilung. "MII arbeitet mit seinen strategischen Partnern - darunter Lam Research, KLA-Tencor, Motorola und DARPA - an der Reduzierung der mit dieser neuen Technologie verbundenen Risiken. Wahrscheinlich kommt die Technologie früher als geplant, insbesondere was kritische Layer betrifft."
Die Ankündigung lässt weitere Fragen über die Entwicklung und Wirtschaftlichkeit einer anderen neuen Lithographie-Technologie aufkommen - der EUV-Lithographie (Extreme Ultraviolet). Die EUV sollte ursprünglich 2007 in großem Stil in die Fabs Einzug halten. Doch Intel und andere Unternehmen haben EUV bis 2009 oder darüber hinaus auf die lange Bank geschoben.
Bei auf Immersions-Techniken basierenden Lithographie-Verfahren werden derzeit schnelle Fortschritte erzielt. Die EUV könnte hierdurch ins Abseits geraten. Die Immersion erweitert die optische Lithographie und soll Analysten zufolge um 2005/2006 in die Fabs einziehen.
Bei der Nanoimprint-Lithographie handelt es sich ebenfalls um eine viel versprechende Technologie, die jedoch als Nischenlösung für die Herstellung von MEMS, optischen Bausteinen und anderen Produkten gilt - jedenfalls bislang. Einige sind überzeugt, dass es die Nanoimprint-Tools sogar in die Chip-Massenproduktion schaffen könnten. Sogar Intel soll in die Technologie investieren.
Nanoimprint-Tools werden von verschiedenen Kleinunternehmen entwickelt. Zu diesen wenig bekannten Pionieren gehören unter anderem die EV Group, MII, Nanonex, Obducat und andere.
Diese Unternehmen entwickeln keine konventionellen Fotolithographie-Scanner, sondern Tools, die eher an "Elektronenstrahl-Replikatoren" erinnern. Diese verwenden UV- und Flüssig-Emersions-Technologien für die Erzeugung der gewünschten Muster auf dem Wafer.
Die Aufnahme der Imprint-Lithographie in die ITRS-Roadmap erfolgte auf Empfehlung der Lithography International Technology Working Group (ITWG). MII, Motorola und KLA-Tencor profilierten such bei einer Präsentation auf Einladung der ITWG im Juli 2003 bereits als Vorkämpfer der Imprint-Lithographie.
Die Ankündigung folgt der Veröffentlichung der neuen ITRS-Roadmap auf der diese Woche in Taiwan stattfindenden ITRS-Winterkonferenz. Die Roadmap gilt allgemein als Trendindikator für Halbleiter-Technologien.
Mirrors are one of the big hurdles for EUV lithography systems,but a Nikon spokesman said the company has made progress on that front recently.
With the EUV development plan, Nikon has set its sights on next-generation lithography systems using a combination of ArF immersion and EUV. Nikon had already announced an aggressive development plan for 193-nm ArF immersion lithography, with shipments planned as early as 2005. Nikon intends to offer an ArF dry tool with high NA of 0.9, then an ArF immersion tool for the 45-nm node and, finally, EUV for 45-nm manufacturing and beyond.
In addition to ArF immersion and EUV, Nikon has also been developing EPL and F2 as part of its involvement in developing most future lithography systems.
Nikon said it shipped the first EPL tool for evaluation to Selete, Japan's 300-mm equipment research consortium, last June. F2 development has also been completed, the spokesman said. Nikon has asked customers whether they need EPL and F2. If Nikon does not receive orders for EPL or F2 by March, those lithography systems will be frozen, said the spokesman.
Nikon is a member of the Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (EUVA), which was established in June 2002 in Japan by 10 companies under the auspices of the Japanese Ministry of Economy, Trade and Industry. Nikon also established a new EUVL development department in January 2003 within its Precision Equipment Co. to focus on the development of practical EUVL technology for its customers.
Light source manufacturers Komatsu Ltd., Ushio Inc. and Gigaphoton Inc. are aggressively developing EUV light sources, but Nikon said it has not decided yet which light source it will use for its EUV tools.
Nikon intends to offer its first EUV tool in 2006 at about ¥5 billion yen ($47 million). The goal is to handle ten 300-mm wafers per hour, though volume production tools expected to be ready around 2010 will require 80 to 100 wafers per hour throughput.
Skontroführer: Berliner Freiverkehr Aktien (1170)
Best Bid
Volumen Taxe
5.000 Stück 0,27
Kauf Orders
Stücke Limit
2.500 0,27
26.000 0,26
12.200 0,25
41.600 0,24
1.000 0,237
Weitere: 26
Best Ask
Taxe Volumen
0,32 53.000 Stück
Verkauf Orders
Limit Stücke
0,31 25.000
0,32 53.000
0,33 10.000
0,35 33.500
0,42 5.000
Weitere: 5
ISIN: SE0000514705
WKN: 922032
Tagesübersicht
akt. Spread in %: 18,52
Letzter Preis: 0,28
Uhrzeit: 09:50:34
Umsatz (Stück): 6.000
Preise gesamt: 45
Umsatz gesamt: 745.745
Statistik
Tageshoch: 0,31
Tagestief: 0,245
Diff. in %: +13,821
Diff. abs.: +0,034
Eröffnungspreis: 0,25
Schluß Vortag: 0,246
Ihr neues Orderbuch.
Details zu den Änderungen finden Sie hier
so long
grüsse
ist natürlich alles Spekulation,
bin aber optimistisch, weil der Wert schon in der ertsen Stunde eine Mio. Aktien umgesetzt wurden...
die AKtie wird langsam warm und bekannt, das spricht für sie! da mache ich mir erstmal keine Sorge um Obducat. habe da eine Andere, um die ich mich kümmern muss...
grade runter auf +9,76%
Gruß Willy
January 26, 2004
Extraordinary Shareholders Meeting
February 20 2004
Year-end Report, 1 January 2003 – 31 December 2003
April 28, 2004
Interim Report, 1st Quarter 2004
May 2004
Annual Report 2003
May 25, 2004
Annual Shareholders Meeting
August 6, 2004
Interim Report, 2nd Quarter 2004
October 28, 2004
Interim Report, 3rd Quarter 2004
was da am Montag wohl gesprochen wird..
O P T I
schaut euch letzte Woche an, am Montag mmit +10% gestartet, dann die Woche den Lauf fortgesetzt.
Gestern +20%, dann müssten noch die Woche +40%+50% drin sein, ok,es ist spekulativ, jedoch die Umsätze sprechen für sich, ich wage sogar die Behauptung, mehr als bei Biophan!!